Pengenalan kepada Mikroskopi Elektron

Pembesaran maksimum mikroskop elektron kini melebihi 15 juta kali,
Pada tahun 1931, M. Nohr dan E. Ruska dari Jerman mengubah suai osiloskop voltan tinggi dengan sumber elektron nyahcas katod sejuk dan tiga kanta elektron, dan memperoleh imej yang diperbesarkan lebih daripada sepuluh kali ganda. Mereka mencipta mikroskop elektron penghantaran, yang mengesahkan kemungkinan pengimejan menguatkan mikroskop elektron. Pada tahun 1932, dengan peningkatan Ruska, keupayaan resolusi mikroskop elektron mencapai 50 nanometer, kira-kira sepuluh kali ganda daripada mikroskop optik pada masa itu, melanggar had resolusi mikroskop optik. Akibatnya, mikroskop elektron mula mendapat perhatian.
Pada 1940s, Hill di Amerika Syarikat mengimbangi asimetri putaran kanta elektron dengan astigmatizer, menghasilkan penemuan baharu dalam resolusi mikroskop elektron dan secara beransur-ansur mencapai tahap moden. Di China, mikroskop elektron penghantaran dengan resolusi 3 nanometer telah berjaya dibangunkan pada tahun 1958. Pada tahun 1979, mikroskop elektron besar dengan resolusi 0.3 nanometer juga dibangunkan.
Walaupun resolusi mikroskop elektron jauh lebih baik daripada mikroskop optik, ia sukar untuk memerhati organisma hidup kerana keperluan untuk bekerja di bawah keadaan vakum, dan penyinaran pancaran elektron juga boleh menyebabkan kerosakan sinaran pada sampel biologi. Isu lain, seperti peningkatan kecerahan senjata elektron dan kualiti kanta elektron, juga memerlukan penyelidikan lanjut.
Mikroskop elektron pengimbasan pelepasan medan
Kegunaan utama: Alat ini mempunyai resolusi ultra tinggi dan boleh memerhati dan memproses imej elektron sekunder dan imej elektron terpantul pelbagai morfologi permukaan sampel pepejal. Dilengkapi dengan spektrometer tenaga sinar-X berprestasi tinggi, ia boleh melakukan analisis kualitatif, separa kuantitatif dan kuantitatif titik mikro, garisan dan permukaan mikro pada permukaan sampel secara serentak, serta mempunyai keupayaan untuk menganalisis morfologi dan komponen kimia secara menyeluruh.
Kategori instrumen: 03040702/Alat/Alat optik/Optik elektronik dan instrumen optik ion
Maklumat penunjuk: Peleraian imej elektron sekunder: 1.5nm Voltan dipercepat: 0-30kV Faktor penguatan: 100-500000 kali Jarak kerja boleh laras berterusan: 5-35mm Kecondongan boleh laras berterusan: -5 darjah ~ Spektrometer sinar-X 45 darjah: Resolusi: 133eV Julat analisis: BU
Maklumat lampiran: Alat penyaduran emas dan karbon Sistem pemprosesan imej ISIS kuar serakan belakang
Mikroskopi elektron pengimbasan pelepasan medan, kerana resolusinya yang tinggi, menyediakan kaedah eksperimen yang boleh dipercayai untuk kajian bahan nano. Di samping itu, imej yang memuaskan diperolehi untuk kedua-dua bahan semikonduktor dan penebat. Pemerhatian morfologi telah dijalankan ke atas filem nipis superkonduktor, bahan magnet, bahan filem nipis yang ditanam oleh epitaksi rasuk molekul, dan bahan semikonduktor. Analisis komposisi rantau mikro telah dilakukan pada pelbagai bahan, dan keputusan yang memuaskan diperolehi